上田鍍金株式会社

Technical information

ウイスカー対策

Snめっきは各種コネクタやモジュールバスバーなどに適用されます。
しかし、めっき後にウイスカと呼ばれる針状結晶が成長し電子回路をショート・破壊するトラブルが発生する場合があります。
特に嵌合部位など外圧の加わる個所でその傾向が顕著です。

ウイスカ発生のメカニズム

Cu下地とSn間に相互拡散による合金層が生成されます。
常温放置で主として生成される拡散合金層は「Cu6Sn5」であり、体積はCuより大きく、Snより小さくなります。
この体積変化(膨張)による圧縮応力がウイスカ成長の駆動力となります。
また、外部からの直接荷重される応力はより短時間でウイスカを生成します。
これは、各種Sn合金でも抑止できません。

ウイスカ発生のメカニズム

ウィスカ対策

弊社では、使われ方やコストに応じた様々なウイスカ対策により、これらのトラブルを解決致します。
いずれも10年以上にわたり、ウィスカ発生実例は無く、長期品質安定性を実現しております。

ウィスカ対策方法
①拡散防止層として下地Niめっきを行う。
②Snめっき後リフローを行う。
③Snめっき後アニールを行う。
④Sn合金めっきを行う。

ウィスカ対策
Pbフリー化対応 Sn-Ag合金めっき

部分Snリフローめっき

弊社ではフープラインに部分Snめっき工程とオンラインリフロー工程を導入し、1工程で部分Snリフローめっきを可能にしています。

部分Snリフローめっき
赤枠部を部分リフロー処理

弊社では、使われ方やコストに応じた様々なウイスカ対策により、これらのトラブルを解決致します。

いずれも20年以上にわたり、ウィスカ発生実例は無く、長期品質安定性を実現しております。